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脱模剂

技术参数

货号

平均粒径(nm

纯度(%

比表面积(m2/g

体积密度(g/cm3

密度(g/cm3

晶型

颜色

ST-TM-001

800

>99.99

8

1.3

2.9

α

灰白色

备注:根据用户要求?#21830;?#20379;不同粒度的产品。

应用方向

    主要应用于多晶硅和单晶熔炼过程中,石英坩埚脱模用。多晶硅和单晶硅生产时,在原料熔化、晶体生长过程中,硅熔体和坩埚长时间接触会产生黏滞性。由于两种材料的热膨胀系数不同,如果硅材料和坩埚壁结合紧密,在晶体冷却时很可能造成晶体硅或坩埚破裂。而硅熔体和坩埚的长时间接触还会造成陶瓷坩埚的腐蚀,使多晶硅中的氧浓度升高。为了解决这些问题,国外工艺上一般采用高纯氮化硅材料作为涂层附在坩埚的内壁,隔离硅熔体和坩埚的直接接触,不仅解决了黏滞问题,而且可以?#26723;?#22810;晶硅中的氧、炭等杂质浓度。利用定向凝固技术生长的铸造多晶硅,多数情况下坩埚是消耗品,不能重复循环使用,即每炉多晶硅都需要消耗一只陶瓷坩埚。采用氮化硅涂层后可使石英陶瓷坩埚得到重复使用,大幅度?#26723;?#29983;产成本我公司根据多晶硅和单晶硅生产工艺特点,开发销售了石英坩埚专用脱膜剂及相关喷涂工艺。高纯氮化硅脱模剂粒度在0.5-1.2微米之间,可以有效地解决在涂层高温固化过程中的氧化问题,使多晶硅和单晶硅的纯度获得大幅度提高,其粉末的纯度可达99.99%以上,可?#31859;?#20809;伏工业中熔炼多晶硅铸锭的石英坩埚涂层材料。可有效防止坩埚内壁与熔融硅料粘接,方便脱模,同时起到阻隔层作用,保证硅锭纯度。与纳米氮化硅或其他类型脱模?#26009;?#27604;,具有优异的抗氧化性能,确保生产过程中碳、氧等杂质浓度获得有效控制。产品纯度高,粒度均匀,性能上完全可与国外同类产品相比较,目前已实现批量化生产。因此可以解决目前国内的石英坩埚涂层粉完全依?#31561;?#26412;UBE、德国Starck等进口,且有较大成本优势。

贮存条件
    本品应密封保存于干燥、阴凉的环?#25345;校灰?#38271;久暴露于空气中,防受潮发生团聚,影响分散性能和使用效果,另应避免重压,勿与氧化剂接触,按照?#32960;?#36135;物运输。

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| 销售 |:产品报价和新产品咨询(021-24281769   18964991769)
| 技术 |:PSA(粒度分析报告)COA(元素分析报告)XRD(X射线衍射图谱)MSDS(材料安全?#24471;?#20070;)(021-24288428   18930187879)
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